Am Fraunhofer IWS werden Prototypen von Reaktoren für Oberflächenbehandlungen wie Feinreinigung, Funktionalisierung oder Ätzen und zur Herstellung von oxidischen und nichtoxidischen Schichten, Nanopartikeln und Nanoröhren (Carbon Nanotubes, CNTs) sowie Karbonfasern entwickelt.
Zur Abscheidung von Nanometer-Einzel- und Multischichten für EUV- und Röntgenoptiken werden hierfür Verfahren der Magnetron- und Ionenstrahl-Sputter-Deposition eingesetzt. Auch Verfahren wie die Puls-Laser-Deposition finden in diesen Bereichen ihren Einsatz.
Die Schichtsysteme genügen höchsten Ansprüchen hinsichtlich Schichtdickengenauigkeit, Rauheit, chemischer Reinheit, lateraler Homogenität und Reproduzierbarkeit. Neben der Entwicklung und Herstellung von Präzisionsschichten verfügt das Fraunhofer IWS über langjährige Erfahrungen auf den Gebieten der Charakterisierung und Modellierung von Nanometerschichten.