PVD-Beschichtung

Die Institute des Fraunhofer-Verbunds Light & Surfaces verfügen über ein breites Spektrum an Beschichtungsverfahren. Die physikalische Gasphasenabscheidung (Physical Vapour Deposition - PVD) und hier insbesondere das Magnetronsputtern, sowie das Hohlkathodenverfahren, sind zentrale Technologien des Fraunhofer IST und des Fraunhofer FEP zur Herstellung von unterschiedlichsten Beschichtungen. 

Physikalische Dampfabscheidung (PVD)

Ebenso wird die physikalische Dampfabscheidung (PVD) zur Beschichtung von Bau- und Kleinteilen als Massengut genutzt. Am Fraunhofer FEP steht hierfür die Gruppe „Beschichtung von Bauteilen“ für die Verfahrens- und Technologieentwicklung zur Verfügung.

Verfahren der physikalischen Dampfphasenabscheidung erlauben die Abscheidung hochwertiger tribologischer und funktioneller Schichten im Dickenbereich von wenigen Nanometern bis zu einigen zehn Mikrometern. Dazu stehen am Fraunhofer IWS Verfahren von der Hochrate-Bedampfung bis hin zu hochaktivierten Plasmaverfahren, sowie deren Kombinationen, zur Verfügung. Einen besonderen Schwerpunkt bildet die umfassende Nutzung von Bogenentladungen als die effektivste Quelle energiereicher Dampfstrahlen.